Оптические линзы толщиной с бумагу: новый метод массового производства плоских линз Френеля
Автоматически добавлена на сайт: 19 янв 2025, 22:43
Исследователи из Токийского университета и компании JSR Corp. разработали метод изготовления плоских линз Френеля с использованием стандартного оборудования для производства полупроводников. Эта технология может значительно упростить и удешевить производство оптических устройств. Результаты исследования демонстрируют возможность изготовления с помощью обычного шагового двигателя — стандартного оборудования в полупроводниковой промышленности. Этот метод значительно упрощает и удешевляет процесс производства плоских линз по сравнению с традиционными методами изготовления метаповерхностей, которые требуют сложной и дорогостоящей нанолитографии. Источник: DALL-E «Мы разработали простой и массовый метод производства с использованием обычной системы полупроводниковой литографии, или шагового двигателя. Это стало возможным благодаря особому типу фоторезиста, называемому цветным резистом, который изначально был разработан для использования в качестве цветных фильтров. Простым покрытием, экспонированием и проявлением этого материала мы создали линзы, способные фокусировать видимый свет до всего лишь 1,1 микрона, что примерно в 100 раз тоньше человеческого волоса», — пояснил доцент Куниаки Кониси из Института фотонной науки и технологий. Цветной резист — это светочувствительный материал (УФ-отверждаемая смола, содержащая абсорбирующий агент для экранирования определенных длин волн видимого света), который изначально был разработан для использования в качестве цветных фильтров. Процесс изготовления включает три ключевых этапа. Сначала происходит нанесение цветного резиста на стеклянную подложку, при этом используются три типа: красный (RED-101), зелёный (JSSG-9135) и синий (BLUE-105). Каждый тип резиста поглощает свет в определённом диапазоне, что позволяет создавать амплитудные линзы, работающие на разных длинах волн. Неотверждённые части резиста, не подвергшиеся воздействию ультрафиолетового излучения, можно растворить в щелочном проявителе, что позволяет формировать субмикроструктуры с абсорбционными характеристиками. Затем выполняется экспонирование в УФ свете с длиной волны 365 нм. Наконец, проводится проявление, при котором удаляются неэкспонированные области, формируя структуру пластинки. Готовая монохромная линза формируется на пластине и внешне напоминает кремниевые микросхемы до их интеграции в более крупные электронные устройства. Источник: Konishi et al. CC-BY-ND Исследователи успешно изготовили линзы различ